荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)星期五(6月19日)否认曾向中国出口其最先进的极紫外(EUV)光刻机，此前有报道称美国商务部长霍华德·卢特尼克(Howard Lutnick)已就此事向该公司高层表达关切。
阿斯麦在一份书面声明中表示：“阿斯麦从未向中国出口过任何EUV光刻机，也从未向中国出口过任何专门为EUV机器设计的零部件、模块或设备。”
彭博社早些时候报道称，卢特尼克在与阿斯麦高层进行的一系列会谈中表示，担忧该公司的极紫外光刻机可能已违反美国主导的出口管制规定流入中国。阿斯麦是全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业。
极紫外光刻机利用波长极短的光线在硅晶圆上蚀刻精细电路，是制造人工智能和高性能计算所用尖端芯片不可或缺的设备。阿斯麦最先进的EUV系统体积与一辆校车相当，重量约达180吨，如此规模使得任何秘密转运都极为困难。
阿斯麦表示，公司一贯遵守涉华出口管制规定，并随时跟进出口管制新规以确保合规。
荷兰外交部也发表声明称，荷兰依据欧盟两用品条例及相关国家措施，对半导体设备出口许可执行“严格”审查，并在必要时“采取相应行动”。
美国商务部在截稿前没有回复置评请求。阿斯麦股价星期五早盘一度下跌约2.3%。
此次风波发生之际，美国国会正推动进一步收紧半导体出口管制。今年4月，两党议员提出《硬件技术管制多边协调法案》(Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，MATCH法案)，拟将出口限制从EUV光刻机扩展至深紫外(DUV)浸没式光刻机，并禁止对中国境内现有设备提供维修服务。该法案已于4月在众议院外交事务委员会获得通过，但在参议院尚未取得进展。
目前，阿斯麦仍可在有限范围内向中国客户销售深紫外光刻机(DUV)。中国在阿斯麦系统设备销售额中所占份额已从2025年第四季度的约36%降至2026年第一季度的19%，降幅主要源于出口管制的持续收紧。
与此同时，中国正加快推进自主研发光刻机的步伐。路透社2025年12月报道，中国科学家已借助多名前阿斯麦工程师的技术积累，在深圳一处高度保密的设施内研制出一台EUV光刻机原型机，有官员将该项目的战略雄心比作中国版"曼哈顿计划"。
阿斯麦几乎垄断全球光刻机市场，其EUV光刻机更是100%占据最高端市场份额。台积电(TSMC)、三星(Samsung)和英特尔(Intel)等全球顶级芯片制造商均依赖阿斯麦设备进行先进制程芯片的生产。
评论区